【镶嵌式】中铝山东：cmp抛光用高纯氧化铝的制备及应用

    中铝山东：cmp抛光用高纯氧化铝的制备及应用

作为化学机械抛光磨料，氧化铝颗粒的大小、形状、粒度分布都影响抛光效果。尤其是在第三代半导体晶圆例如碳化硅晶圆的制备中，其相对于硅片更高的硬度需要选择硬度更高的材料，但同时需要达到埃级的平整度，其粒径需要很小，且分布较窄，另外对纯度的要求也非常苛刻，如na、ca、磁性离子需严格控制，最高达到ppm级别，放射性元素u、th需控制ppb级。

高纯纳米氧化铝常见的制备方法可分为三大类：固相法、气相法、液相法。如今高品质的高纯纳米氧化铝粉体国内已经达到了不错的水平，但应用于cmp抛光的高纯氧化铝粉体仍旧有着较高的技术门槛。由于纳米α-氧化铝的硬度很高，抛光时易对工件表面造成严重的损伤，而且纳米氧化铝的表面能比较高，粒子易团聚，也会造成抛光工件的划痕、凹坑等表面缺陷。为了提高抛光工件的表面质量和粒子的分散稳定性，需要对纳米氧化铝进行了表面改性。

对纳米氧化铝表面改性的目的是提高颗粒表面规则度，减少抛光划痕和凹坑，同时提高氧化铝磨料分散度和抛光液稳定性，复杂的生产及加工技术无疑使得cmp抛光用高纯氧化铝有着极高的产品附加值。

文章来源：粉体圈

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